電鍍集控園區(qū)內(nèi)的電鍍廢水是國內(nèi)各個行業(yè)廢水處理中較難處理的種類之一，根本原因在于園區(qū)電鍍廢水中的特征污染物及相關污染物指標成分比較復雜、污染物濃度高、有害物質含量多等方面。鑒于此，本文著重探討分析化學沉淀方法，根據(jù)實際項目運營情況加以分析探究。 電鍍廢水來源 電鍍集控區(qū)電鍍廢水的主要來源包括以下幾種方式： (1)前處理含油廢水，來源于各類五金鍍件、汽配鍍件、水暖鍍件、鐵件等表面涂覆的油類物質，前處理含油廢水約占電鍍廢水中的30%左右; (2)鍍件清洗廢水，包括含銅廢水、含鎳廢水、含鉻廢水、含鋅廢水、含氰廢水、焦磷酸鹽廢水等; (3)廢棄鍍液或稱之為電鍍槽液，其主要是由鍍槽底部所沉淀的一些具有較多雜質的液體以及過濾機械和水泵之間出現(xiàn)不可避免地滲透情況時也會造成廢棄鍍液的產(chǎn)生，廢棄鍍液均會構成電鍍廢水。 應用原理 1.氫氧化物沉淀原理 化學沉淀法主要是指在電鍍廢水中加入適量的苛性鈉、氧化鈣等物質，在堿性條件下將電鍍廢水中的重金屬離子與堿性物質的氫氧根通過化學反應形成難溶于水的氫氧化物，從而通過這種方式實現(xiàn)處理電鍍廢水的目的。 在實際生產(chǎn)過程中，可以通過合理地投加氧化鈣、苛性鈉、液堿可有效地改善電鍍廢水的 pH 值水平，將電鍍集控區(qū)的復雜電鍍廢水的鉻離子、銅離子、鎳離子進行去除。運營試驗測定結果表明，使用化學沉淀法所進行的沉淀可去除電鍍廢水中98.77% 的鉻離子、99.83%的鎳離子、99.88% 的銅離子。 2.硫化物沉淀原理 硫化物化學沉淀法主要是指在電鍍廢水中某些弱酸或者弱堿的情況下，在電鍍廢水中添加適量的硫化物，如過硫化鈉或者硫化鈉，促使重金屬離子產(chǎn)生相應的硫化物化學反應，生產(chǎn)沉淀物質。 化學反應過程中重點注意兩個細節(jié)問題：一是硫化物沉淀的顆粒直徑通常較小，沉淀過濾時，需要在電鍍廢水混合溶液中添加足量的絮凝劑，有效加強沉淀及過濾效果; 二是在進行硫化物的投放時需要對硫化物的量進行嚴格控制，避免因投放過多硫化物導致重金屬離子復溶于電鍍廢水中。 3. 鐵氧體沉淀原理 鐵氧體化學沉淀法主要是指在電鍍廢水中添加適量的鐵鹽，與此同時，適當調(diào)節(jié)pH值，并將電鍍廢水的溫度控制在合理的范圍。 在鐵氧體化學沉淀反應條件下，重金屬離子會與鐵鹽物質產(chǎn)生化學反應，形成氧化沉淀。當電鍍廢水混合溶液與鐵鹽物質完成化學反應之后， 通過沉淀系統(tǒng)可以對所得混合物進行沉淀，從而實現(xiàn)沉淀污泥與混合液分離，達到去除各類電鍍廢水混合溶液中重金屬離子，滿足相關規(guī)范標準的要求。 4.鋇鹽沉淀原理 鋇鹽化學沉淀法主要適用于去除電鍍廢水中的鉻離子。 沉淀時，通常直接添加硫化鋇、碳酸鋇等適量的鋇鹽到含鉻廢水中，含鉻電鍍廢水中的鉻離子與鋇鹽物質發(fā)生相應的一系列的化學反應，終產(chǎn)生沉淀污泥，將沉淀污泥與含鉻電鍍廢水溶液進行分離便可以得到較為純凈的電鍍廢水溶液。 殘留的鋇離子，可以在尾水中添加適量的硫酸鈣溶液進行反應而實現(xiàn)鋇離子的去除。 運營案例分析 1.項目概述 以電鍍集控區(qū)電鍍污水處理廠含鉻廢水調(diào)節(jié)池中的含鉻廢水進行相應的去除處理分析，含鉻廢水濃度經(jīng)測定為六價鉻 368.4mg/L，總鉻647.8mg/L，pH 值為 2.6。 2.工藝流程 高濃度電鍍集控區(qū)電鍍廢水化學沉淀法工藝流程如圖1所示，其中含鉻廢水在酸性條件下進行六價鉻快速還原為三價鉻，隨后投加化學沉多段 A/O 生化池，終實現(xiàn)達標排放，滿足《電鍍污染物排放標準》(21900-2008)中的所有指標要求。 3. 運營實踐分析 以上述含鉻廢水為分析對象，在處理電鍍廢水六價鉻時，其工藝具體有以下要求： (1)將 30% 鹽酸溶液、32% 氫氧化鈉溶液和 20% 亞硫酸氫鈉溶液分別置于相應的儲存槽，投加還原劑亞硫酸氫鈉進行還原反應，廢水流量為 35m3/h，然后對其進行均勻性的攪拌進行充分反應 10min，充分完全還原六價鉻離子 ; (2)在一級沉淀器先后投加 32% 氫氧化鈉藥劑、15% 聚合氯化鋁與 0.25% 聚丙烯酰胺溶液進行三級攪拌充分反應20min，通過斜板沉淀裝置進行沉淀; (3)在二級沉淀器先后投加聚合 氯化鋁、聚丙烯酰胺溶液進行精細化控制沉淀反應，經(jīng)三級攪拌，通過斜板沉淀裝置進行沉淀。 結束語 通過電鍍集控區(qū)污水處理廠的實際運營情況分析，化學沉淀法針對電鍍廢水中大多數(shù)有毒有害物質包括銅、鎳、鋅、鉻等重金屬指標及總磷都具有較高的處理效果。 隨著化學沉淀法的深入研究與分析，對電鍍集控區(qū)內(nèi)復雜電鍍廢水進行精細化處理，電鍍廢水處理中各類污染物質指標處理效果更易滿足相關標準要求。 |
